Sediaan Masker Muka

Tujuan:

Memberikan efek pembersih pada muka.

Kandungan:

1. Bahan bersifat oklusif dimana akan memberikan rasa hangat dan mengencangkan.

2. Bahan bersifat koloidal terdispersi didalam basis masker yang akan mengabsorpsi kotoran dan lemak yang menempel pada muka.

Mekanisme kerja masker :

1. Pada formula masker ditambahkan air hingga sediaan berbentuk cair.

2. Kemudian dioleskan pada wajah hingga merata.

3. Biarkan sediaan mengering dan diamkan menempel dengan waktu tertentu.

4. Setelah mengering masker diangkat dari muka, nantinya akan terangkat sisa kulit ari dan lemak yang mengeras pada permukaan kulit.

Beberapa macam basis masker :

1. Basis malam dan lemak padat

R/ mikrokristalin wax 13 %

Parafin wax 60 %

Setil alkohol 5 %

Minyak mineral 20 %

Bentonit 38 1,4 %

Isopropil alkohol 0,6 %

Bahan oklusif : bahan yang berbentuk wax dan minyak mineral

Bahan koloidal : bentonit 38

2. Basis hidrokoloid

R/ Gelatin 10 %

Air 50 %

Kamfer 0,05 %

Zink oksida 3 %

Kaolin 5 %

Titanium dioksida 2 %

R/ Gum tragakan 2,2 %

Gliserin 2,5 %

Gelatin 2,3 %

Air 90,5 %

Zink oksida 2,5 %

Bahan hidrokoloid : Kasein, gelatin, gum tragakan.

Bahan koloid : Zink oksida, kaolin, titanium dioksida.

3. Basis lumpur alam

R/ kaolin 35 %

Bentonit 5 %

Setil alkohol 2 %

Natrium lauril sulfat 0,1 %

Gliserin 10 %

Nipagin M 0,1 %

Parfum q.s

Air 100 %

Bahan lumpur alam merangkap dengan bahan koloidal : kaolin dan bentonit.

Basis lumpur alam ditambahkan basis krim atau basis hidrofilik : gum tragakan, cold cream dan gliserin.